الخلايا الشمسية مع عملية التلدين

طبقة نقل إلكترون تعتمد على SnO مبخرة حرارياً منخفضة الحرارة لخلايا بيروفسكايت الشمسية مع عملية التلدين.

تمثل خلايا البيروفسكايت الشمسية (PSCs) الجيل الثالث من الخلايا الشمسية التي تتكون من قطب شبه موصل ، وإلكترود مضاد ، وإلكتروليت. خضعت خلايا البيروفسكايت الشمسية (PSCs) لأبحاث شاملة وأدت إلى تحسن مثير للإعجاب في فترة قصيرة من الزمن كبدائل أرخص لخلايا السيليكون الشمسية نظرًا لكفاءتها العالية في تحويل الطاقة وانخفاض تكلفة الإنتاج.

اجتذب أكسيد القصدير (SnO₂) الانتباه كمرشح واعد لمواد نقل الإلكترون لخلايا بيروفسكايت الشمسية ، لأنه يمكن معالجتها بسهولة عن طريق درجة حرارة التلدين المنخفضة وطريقة معالجة المحلول. ومع ذلك ، في تصنيع طبقة نقل الإلكترون SnO₂ (ETL) عبر طريقة المحلول التقليدية ، من الصعب جدًا زيادة حجم الركيزة بطريقة معالجة المحلول أو تسويقها.

في هذا العمل ، قمنا بالإبلاغ عن الخصائص الكهروضوئية لطبقة نقل الإلكترون القائمة على SnO لخلايا بيروفسكايت الشمسية (PSCs) المصنّعة بطريقة معالجة التبخر الحراري. من المعروف أن طبقة SnO₂ المودعة بالمبخر الحراري غير مستقرة من الناحية البلورية.

لحل هذه المشكلة ، أجرينا عملية التلدين عند درجة حرارة منخفضة نسبيًا (أقل من 200 درجة مئوية). نتيجة لذلك ، يمكننا تأكيد درجة حرارة التلدين المثلى ويمكننا إثبات PSCs مع SnO₂ المترسبة حرارياً كطبقة نقل إلكترونية مضغوطة من خلال عملية تلدين منخفضة الحرارة. سوف يساهم في فرص جديدة في تسويق وتطوير خلايا بيروفسكايت الشمسية.